基層必須堅固、密實； 強度必須進(jìn)行檢測并應(yīng)符合設(shè)計要求。嚴(yán)禁有地下水滲漏、不均勻沉陷。不得有起砂、脫殼、裂縫、蜂窩麻面等現(xiàn)象。

    1.2環(huán)氧地坪基層表面應(yīng)平整，其平整度應(yīng)采用2m直尺檢查，并應(yīng)符合下列規(guī)定： 1 當(dāng)面層厚度大于5mm時，允許空隙不應(yīng)大于4mm; 2 當(dāng)防腐蝕面層厚度小于5mm時，允許空隙不應(yīng)大于2mm.

    1.3 環(huán)氧地坪基層必須干燥，在深度為20mm的厚度層時，含水率不應(yīng)大于6%；當(dāng)采用濕固化型材料時；含水率可不受上述限制，但表面不得有滲水、浮水及積水；當(dāng)設(shè)計對濕度有特殊要求時，應(yīng)按設(shè)計要求進(jìn)行施工。

    1.4 環(huán)氧地坪基層坡度必須進(jìn)行檢測并應(yīng)符合設(shè)計要求，其允許偏差應(yīng)為坡度長的±0.2%, 最大偏差值不得大于30mm.

1.5 承重及結(jié)構(gòu)件等重要混泥土澆筑宜采用大型清水模板一次制成.當(dāng)采用鋼模板時,選用的脫模劑不應(yīng)污染環(huán)氧地坪基層.

    1.6 當(dāng)環(huán)氧地坪基層表面進(jìn)行塊材鋪砌施工時,環(huán)氧地坪基層的陰陽角應(yīng)做成直角;進(jìn)行其它種類防腐蝕施工時,環(huán)氧地坪基層的陰陽角應(yīng)做成斜面或圓角.

    1.7 經(jīng)過養(yǎng)護(hù)的環(huán)氧地坪基層表面,不得白色析出物.

    1.8 環(huán)氧地坪基層表面必須清潔.施工前,環(huán)氧地坪基層表面處理方法應(yīng)符合下列規(guī)定;

    1 當(dāng)采用手工或動力工具打磨時,表面應(yīng)無水泥渣及疏松的附著物.

    2 當(dāng)采用噴砂或拋丸時,應(yīng)使環(huán)氧地坪基層表面形成均勻粗糙面。

    3 當(dāng)采用研磨機械打磨時，應(yīng)使清潔、平整。當(dāng)正式涂裝時，必須用干凈的軟毛刷、壓縮空氣或工業(yè)吸塵器，將環(huán)氧地坪基層表面清理干凈。

   1.9 已被油脂、化學(xué)藥品污染的環(huán)氧地坪基層表面或改建、擴(kuò)建工程中已被侵蝕的疏松環(huán)氧地坪基層，應(yīng)進(jìn)行表面預(yù)處理，處理方法應(yīng)符合下列規(guī)定：

   （1）當(dāng)環(huán)氧地坪基層表面被介質(zhì)侵蝕，呈疏松狀，并存在高度差時，應(yīng)采用鑿毛機械處理或噴砂處理。

   （2）當(dāng)環(huán)氧地坪基層表面被介質(zhì)疏松狀時，應(yīng)采用噴砂處理。

   （3）被腐蝕介質(zhì)侵蝕的疏松環(huán)氧地坪基層，必須鑿除干凈，采用對混泥土無潛在危險的相應(yīng)化學(xué)品予中和，再用清水反復(fù)洗滌。

   （4）被油脂、化學(xué)品污染的表面，可使用洗滌劑、堿液溶劑等洗滌，也可用火烤蒸汽吹洗等方法處理，但不得損壞環(huán)氧地坪基層。

   （5） 不平整及缺陷部分，可采用細(xì)石混泥土或聚合物水泥砂漿修補，養(yǎng)護(hù)后按新的環(huán)氧地坪基層進(jìn)行處理。

   1.10 凡穿過防腐蝕層的管道，套管、預(yù)留扎、預(yù)埋件、均應(yīng)預(yù)先埋置或留設(shè)。

   1.11 整體防腐蝕構(gòu)造環(huán)氧地坪基層表面不宜做成找平處理。當(dāng)必須進(jìn)找平時， 處理方法應(yīng)符合下列規(guī)定；

  （1）當(dāng)采用細(xì)石混泥土找平時，強度等級不應(yīng)小于C20，厚度不應(yīng)小于30mm.

   （2） 當(dāng)環(huán)氧地坪基層必須用水泥砂漿找平時，應(yīng)先涂一層混凝土界面處理劑，再按設(shè)計厚度找平。

   （3） 當(dāng)施工過程不宜進(jìn)行上述操作時，可采用樹脂砂漿或聚合物水泥砂漿找平。

   1.12 當(dāng)采用水泥砂漿找平時，表面應(yīng)壓實、抹平、不得拍打，并進(jìn)行粗糙化處理。

   1.13 經(jīng)過養(yǎng)護(hù)的找平層表面嚴(yán)禁出現(xiàn)開裂、起砂、脫層、蜂窩麻面等缺陷。

   1.14 當(dāng)水泥砂漿用砌體結(jié)構(gòu)抹面層時，表面必須平整，不得有起砂、脫殼、蜂窩、麻面等缺陷。